Kisi-kisi holografik ialah elemen optik difraksi berdasarkan prinsip superposisi koheren optikal, menggunakan gangguan dua pancaran laser untuk membentuk pinggiran. Ia boleh dibuat pada bahan fotosensitif menggunakan teknologi pendedahan medan gangguan pengimbasan. Teknologi ini melibatkan salutan bahan fotosensitif pada substrat kaca optik, diikuti dengan pendedahan gangguan laser dan goresan untuk mencipta kisi transmisi atau pantulan. Ketumpatan alur maksimum mencapai 4300 garis/mm, dan kawasan fabrikasi maksimum ialah 1500mm × 420mm. Berbanding dengan jeriji scribed tradisional, ia menawarkan kelebihan seperti tiada garis hantu, cahaya sesat rendah (10⁻⁴), dan resolusi tinggi (mencapai nilai teori 80%~100%). Kecekapan pembelauan boleh ditingkatkan kepada 95% menggunakan teknologi etsa ion.
Kisi-kisi holografik digunakan secara meluas dalam instrumen analisis spektroskopi, teleskop astronomi, laser, komunikasi optik dan gabungan kurungan inersia, dengan aplikasi biasa termasuk satelit "Xihe", sistem AR-HUD dan cermin mata AR untuk medan khusus.
